据称，美光科技公司准备从日本政府获得约 2000 亿日元（ 备注：当前约 102.6 亿元人民币）的财政补贴，以助其在日本生产下一代存储芯片，这是日本为加强国内半导体生产而采取的最新措施。

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知情人士称，美光科技将使用这笔资金在广岛工厂安装 ASML 的 EUV 先进芯片制造设备，将用于生产 DRAM 芯片。

由于协议未公开，知情人士要求不具名。这笔资金可能会在日本首相岸田文雄周四会见包括美光 CEO 梅罗特拉 (Sanjay Mehrotra) 在内的半导体行业高管代表团时才会官宣。除美光外，还包括台积电、英特尔等 7 家主要半导体公司的高管。

美光 1γ 制造技术中原定于 2024 年的某个时候推出，但因为美光必须在 2023 和 2024 财年减少新设备的支出，并减少 DRAM bit 出货量，它将不得不放慢 DRAM 在其 1β 和 1γ 制造技术上的增长速度，目前 1γ nm 制程已被推迟到 2025 年。